一、利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文)（论文文献综述）
王艺[1]（2020）在《大尺寸大高宽比光栅结构均匀性的工艺优化研究》文中认为在过去的十几年里,基于光栅的X射线相位衬度成像技术发展迅速。其中的核心光学元件,大尺寸大高宽比光栅,在相衬成像系统中起到了不可或缺的作用。目前,传统的大高宽比光栅制作方法是硅体深加工技术与LIGA技术,但这两种方法制作出来的光栅难以同时满足相衬成像装置高能量和大视场的成像需求,对应相衬成像系统成像要求的光栅尺寸至少需要100mm × 100mm,并且需要有良好的结构均匀性。为了实现大尺寸大高宽比光栅的制作,UV-LIGA技术是一个可能的工艺选择,该技术可以制作大尺寸光栅,但是目前光栅结构的均匀性仍难以满足相衬成像系统成像要求。因此,为了提高大尺寸大高宽比光栅结构的均匀性,本文基于UV-LIGA技术制备大尺寸大高宽比光栅,对UV-LIGA技术的关键工艺步骤进行了优化研究,最终实现了大尺寸大高宽比光栅结构均匀性的提高。论文开展的主要工作如下:1.为了减少间隙不均匀带来的衍射效应的影响,本文对紫外曝光工艺进行了研究,引入了背面曝光制作方法。为了探究该方法的可行性,基于传统接触式曝光工艺和背面曝光工艺分别制作了不同线宽的大尺寸大高宽比光栅,通过栅条倾斜角度一致性和线宽一致性来评判曝光均匀性。实验结果表明,在不同线宽条件下,背面曝光工艺制备的大高宽比光栅倾斜角度接近90°且角度的一致性好;同时,制备的大尺寸光栅同样可以获得良好的线宽一致性,本文采用的背面曝光工艺可以有效地提高大尺寸大高宽比光栅的均匀性。2.研究了大高宽比光栅的显影不均匀问题,发展了基于摇床式辅助显影方法。为了探究该显影方法的可行性,利用有限元法模拟了摇床工作时整个样品表面的流场分布以及显影液在不同高宽比微结构光栅表面的流场分布。模拟结果表明摇床摆动可以实现显影液均匀流动,该方法可以实现大高宽比光栅微结构的均匀显影。为了高效地给出适当的显影条件,我们提出了快速显影参数确定方法。通过实验给出了沟槽深宽比和显影液流速之间的关系,提供了可参考的显影工艺参数。3.针对大高宽比光栅在电镀过程中会发生摆动的问题,本文从结构设计入手,将加强筋结构引入到光栅结构。利用ANSYS软件对不同的光栅结构进行了模拟,结果表明,在光栅微结构中引入加强筋结构可以有效控制光栅在电镀过程中发生摆动。通过模拟还分析了不同加强筋结构对光栅结构强度的影响,得到了最佳的加强筋结构参数。实验结果表明通过引入加强筋结构到光栅结构中,可以有效提高金属光栅的结构均匀性。
张健[2]（2018）在《微纳光子结构中的光谱学共振效应研究》文中研究表明微纳光子学是物理学和光学工程研究的重要分支,融合了光学光电子学和纳米科技等,研究在微纳尺度下,光与物质相互作用过程中新光物理学机理和特殊物理学效应。其研究范围包括光与物质相互作用的规律及其在光产生、光传输、光操纵、光调控和光电探测等方面的应用。微纳光子结构中典型的光物理学特性包括波导共振、Fano共振、等离激元等纳米尺度下新的光学效应,而被广泛地应用于生物/化学传感器、表面增强拉曼散射光谱学、太阳能电池等结构或器件中。我们以微纳光子结构/器件的实现及其中光物理学共振效应研究为主要内容,开展了如下方面的工作:（1）微纳介质和金属光栅制备及其Fano共振效应研究制备具有不同衍射效率波导耦合介质光栅,研究了基于衍射过程和二阶波导共振模式间的类Fano耦合效应。通过改变光栅的占空比,提高了其衍射效率,从而增强了类Fano耦合效应。证明了构造类Fano耦合效应的基本原理,也从侧面验证波导耦合金属光子晶体中的Fano共振来源于等离激元的光散射效应。在单一的ITO薄膜中制备了波导光栅结构,研究了其中的类二阶布拉格衍射过程及其与波导共振模式间的相互作用。在特定的入射角,实现了两种模式的空间重合。在此基础上,研究了该结构的光学分束功能。其分束比和工作效率可通过调整光栅调制深度和ITO波导厚度得以优化。基于上述ITO薄膜光栅结构,进一步蒸镀银纳米薄膜壳层。研究了银膜中的等离激元模式的光谱学响应特性,以及它们和光栅下面ITO薄膜中波导共振模式间的类Fano耦合效应。在TM偏振条件下,观察到对称型和非对称型表面等离激元共振模式及其与二阶波导模式间的类Fano耦合共振。（2）双金属光子结构及异质结型局域化等离子共振特性研究研究了利用溶液法和光还原法制备二元金纳米颗粒和银纳米线构成的双金属网格状光子结构的新方法。揭示单个金纳米颗粒和单根银纳米线中的偶极子和四极子等离激元共振模式,并研究了这些共振模式间相互作用产生的异质结界面态等离激元。（3）金纳米杯的化学合成和多重局域化等离子共振特性研究利用基于纳米模板和种子生长的化学合成方法,制备了尺寸、形貌可控的金纳米杯结构。全面研究了金纳米杯结构生长过程及形貌控制的多种影响因素和参数。利用二氧化硅小球和酚醛树脂柔性包覆层模板制备了不同尺寸的金纳米杯。结合光谱学特性研究,分析了金纳米杯结构中等离激元的物理学本质,以及相应的局域场和电荷分布特性。进一步调整反应溶液的量,制备金纳米盖-金纳米杯-金纳米壳等系列结构,并表征了其形貌和光谱学响应特性。
陆洁[3]（2017）在《有序微纳结构材料的制备及其对细胞的作用研究》文中指出细胞与微纳结构材料之间的相互作用是材料科学领域的研究重点之一。材料的物理化学性质对细胞的行为具有非常重要的调控作用,继而影响到细胞的黏附、增殖、迁移和分化等细胞行为和功能。通常材料表面的性质可以分为化学性质和物理性质。对材料表面进行化学基团修饰,可以改变细胞的黏附行为等,但细胞生长环境仍局限于二维平面。物理修饰不仅可以调节细胞黏附排列等行为,甚至可提供细胞培养的三维环境。目前改变材料表面物理形貌的方法有自组装技术、电子束刻蚀、纳米压印技术等。近些年来,由于自组装技术和光刻微加工技术可以在微纳米尺度范围内制备多尺寸多功能的微结构,因此越来越多应用于细胞培养领域。本论文结合自组装和光刻技术,构建二维及三维有序微纳结构材料,并用于细胞培养。研究内容如下:（1）利用自组装方法,制备出微纳多孔有序结构材料;进而再通过拉伸作用,获得孔穴变形的有序结构材料;通过细胞培养,发现孔穴形貌对细胞形貌和细胞排列产生诱导,探讨了不同拉伸倍数对细胞的取向排列诱导情况,拉伸倍数越高细胞定向排列越明显;在此基础上,通过对不同孔穴形貌的有序结构材料进行凝胶修饰的方法,实现了对细胞的黏附行为和定向排列行为的同时调控,这种材料有望为各向异性组织如心肌、血管等的研究提供一种新的方法。（2）提出了基于阶跃拉伸法制备有序结构材料的方法,通过对同一材料在不同区域的不同倍数拉伸,得到了一系列不同孔穴形貌相组合的有序结构材料;基于此方法,还获得了孔穴形貌渐变的有序结构材料;此外,细胞实验表明,肌腱细胞在渐变拉伸材料表面呈现无序至有序的渐变排列;这种细胞渐变排列为今后研究组织工程领域中的关节连接处等提供了研究基础。（3）基于水平接触曝光结合双向曝光的方法,获得了有序网格结构中空纤维;细胞实验表明,细胞可围绕管状结构黏附生长形成致密层;进而通过对中空纤维的药物凝胶灌注,获得了负载药物的功能性纤维,并探讨了功能性纤维对表面黏附细胞的影响;此外,还设计并制备得到了单进口多出口的纤维网络支架;这种具有贯穿通道且通透管壁的中空纤维及其纤维网络,有望在三维灌注细胞培养、药物缓释等领域中得到应用。
高阁[4]（2017）在《硅基微纳波导器件研究》文中进行了进一步梳理硅作为微电子产业的基石,在光通信波段展现了近乎透明的信号传输能力。光担任信息时代的使者,肩负着克服“电子传输瓶颈”的使命。两者的结合不但可以实现片上的光电集成以期在更短的传输距离上由光接替电实现更大带宽的数据交换,也使得传统的分立光器件可以利用成熟的互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺进行小尺寸、低成本的规模化生产。近年来,随着技术的不断积累以及市场需求的逐渐显现,对于硅基光子学的研究已经取得了长足的进展。其应用潜力也覆盖了从光通信用光模块、芯片级光互联、光学生物传感、非线性光学到微波光子学等多个领域。而所有这些基于硅光技术的应用得以实现的前提都是要设计并制备出高性能的硅基微纳波导器件。本论文针对其中的一些应用设计并展示了几种新型的硅基微纳波导器件,主要包括:（1）理论设计了两种硅基耦合微环谐振器结构来提高高速宽带信号的四波混频转换效率。两种器件结构通过针对参与四波混频过程的相互作用光波设计不同的谐振带宽及光场倍增因子达到了改善带宽与转换效率间限制的目的。计算结果表明相比于具有相同光程的硅基单微环谐振器,两种器件结构能够分别获得5dB和14dB的转换效率提升。同时,两个器件的下载端都实现了高于17dB的自滤波泵浦抑制。（2）理论设计了一种反射率可调的硅基单波长反射器。在忽略损耗的理想情况下,该器件能够在保证峰值反射波长不变的同时实现反射率从0到1的调谐。此外,通过结合所设计的单波长反射器与基于微环的可调光延时器建议了一种片上可重构的光相关器结构。该光相关器可用于实现光分组交换网络中的分组头信息识别功能。（3）设计并实验制备了一种硅基空气模光子晶体微环谐振器。该器件能够同时实现微环谐振和光子晶体慢光所产生的光和物质相互作用的增强。另外,通过设计器件工作在光子晶体的空气带,光场被更多地压缩进了光子晶体孔中。实验测得的器件的最高Q值约为14600,其最大群折射率值约为27.3。仿真结果表明相比于工作在介质带的光子晶体微环谐振器,该器件.的光子晶体孔中的光场限制比提高了近6.4倍。、通过结合功能性材料,该器件有希望用于光学生物传感、片上光发射和非线性光学等应用。（4）设计并实验制备了一种谐振间隔可调的硅基单微环谐振器。该器件通过在微环内引入反射率可调的反射元使得微环中两个反向传输的频率简并谐振模发生耦合,从而实现了谐振间隔的调谐。所制备的器件在9.82mW的加热功耗内完成了从零到一整个自由光谱范围的谐振间隔调谐。此外,该器件还可用于实现平顶的带阻滤波。这种器件结构所展示的谐振间隔和谐振谱形的调谐能力使得其适合于可重构光学滤波以及微波光子学等应用。（5）理论及实验证实了硅基亚波长光栅波导强的非线性容忍度。首先,基于波导截面的光场模式分布计算了其等效非线性系数。相比于硅基条波导,亚波长光栅波导展现了超过一个数量级的非线性系数减小。随后,通过结合波分复用技术与高阶调制格式,在实验制备的硅基亚波长光栅波导上完成了 75个波长通道总速率达2.86Tbit/s的数据信号传输测试。相比于具有相同长度的硅基条波导,该亚波长光栅波导的最佳信号输入功率提高了近8dB,表明了其对非线性传输损伤更强的容忍度。（6）设计并实验制备了两种工作在O波段的四通道氮化硅波分复用器件。器件采用级联马赫曾德干涉仪的结构实现了平顶的分波合波且通道波长分别满足局域网波分复用（LAN WDM）和粗波分复用（CWDM）的光接口规范要求。两种器件中,各通道的插损均小于1.8dB,通道间串扰低于-15dB,1dB通带带宽超过了通道间隔的59%。另外,由于氮化硅材料具有较小的热光系数,两种波分复用器件展示了约18.5pm/℃的温度灵敏度。这一数值接近SOI器件温度灵敏度的四分之一,且仅为PLC器件相应数值的两倍不到。而在器件尺寸上,该氮化硅器件约为SOI器件的3～4倍大,却比PLC器件减小了近三个数量级。
康世涛[5]（2016）在《聚合物波导光互连耦合器的设计》文中指出自古以来,人类采用各种方式来传递信息。从古代的烽火通信、飞鸽传书到现代的电报、电话和计算机通信,人类对于信息的需求量越来越大。目前较短距离的通信（如芯片,电路板）是通过电互连来实现信息的传输,随着集成度的提高,电互连自身的限制越来越突出。它存在着信号串扰、时钟信号歪斜、电磁干扰、集成密度高以及功耗大等问题,这些问题使电互连技术成为限制系统性能的重要瓶颈。芯片与芯片之间的光互连技术则具有低损耗、高带宽、大容量、无串扰、抗电磁干扰等优点,很好地提高了传输速率和互连的可靠性,使光互连成为解决电互连问题的一个有效方法。本文主要针对印刷电路板（Printed circuit board, PCB）板内芯片与芯片之间的光互连进行研究。首先从理论上分析光在平面波导和矩形波导中传输的过程并计算光在波导中传输模式。根据激发的模式来判断光在波导中传输的情况,进而测量传输损耗。接下来,在近年来光互连研究成果的基础上,通过对已有的结构进行改进,提出一种新的设计结构。并从以下三个方面对该结构进行了研究,第一：矩形波导设计与制作。矩形波导通过掩膜版曝光显影工艺流程来实现,通过掩膜版的设计可以精确控制波导的尺寸,对矩形波导的进行通光测试和波导损耗的计算,均得到比较好的结果,满足通信中对损耗的要求。第二：斜面倾角的制作以及镀膜。本论文中采用的反射结构直接在矩形波导上实现,相比于以往的结构有很大改进,这种方式使光的传输和反射都在波导上完成,减少了以往二者之间过渡产生的损耗,同时对斜面镀膜进行分析,研究不同材料和不同膜厚对反射的影响。第三：耦合器的设计。由于垂直共振腔表面发射激光器（Vertical cavity surface emitting laser, VCSEL）与波导的距离会影响光耦合进波导中能量的大小,也就是说会产生损耗,本论文的创新之处就是通过设计一个高度可以控制的圆柱耦合器,这样就可以调整激光器和波导之间的距离,结合光互连中的结构,找到合适的距离,使光互连装置设计简单又能减少损耗,对光互连的应用具有重要意义。最后,对上述结构进行通光测试并分析测试结果,计算波导的传输损耗、插入损耗、耦合损耗和斜面反射效率。说明增加圆柱耦合装置的优势,对不足的地方提出改进方案。
张志芳[6]（2016）在《镍基石墨烯复合材料微型零件制备技术研究》文中指出MEMS（微机电系统）是微电子同机械、光学领域结合而产生的新技术。在制造MEMS微加工技术领域主要包括微细电火花技术、微细电解加工技术、微细切削技术、LIGA技术、UV-LIGA技术等。其中LIGA技术采用光刻技术进行微零件和微结构的加工,实现了微电子与微机械的结合。LIGA技术具有加工高精度、高深宽比、侧壁垂直零件的优点,已成为MEMS的主流技术,受到了科研机构、国家政府、企业等高度重视与研究。但其昂贵的设备,掩模板加工复杂等问题限制了其发展。UV-LIGA技术的出现降低了设备成本,使其得到了广泛应用。目前,微型零件在领空、汽车、生物医学、科学研究等领域越来越得到重视。基于SU-8胶的UV-LIGA工艺拥有低成本、制造精度高等优点,因而被广泛应用于微型零件的制造。利用SU-8胶的UV-LIGA技术能够加工出形状结构复杂的微型零件。镍基复合材料具有高强度、良好的耐蚀性与耐磨性等优点,在航空航天、汽车制造等领域受到高度重视。把石墨烯加入到镍基材料中制成镍基石墨烯复合材料,有助于增强其复合材料的硬度、强度等力学性能以及耐蚀性﹑耐磨性。本文探索并研究了镍基石墨烯复合材料微型零件制备工艺。（1）利用SU-8胶的UV-LIGA技术制备了SU-8（2075型）厚度为500μm的微型零件胶结构;（2）对光刻实验结果进行了探讨与分析;（3）利用复合电铸技术电沉积出了厚度500μm的镍基石墨烯微型零件;（4）分析了电流密度、阴阳极之间距离对复合铸层表面质量的影响。研究结果证明利用UV-LIGA技术结合复合电铸技术制备镍基石墨烯微型零件的技术是可行的。
廖哲勋[7]（2013）在《异平面微阵列结构的制备和特性研究》文中提出利用基于MEMS（微电子机械系统）工艺的微结构制造技术来制备微阵列是当今时代的一个热门研究方向。微阵列在生物学和医学领域中，有着广泛的应用和光明的前景。根据外部形貌结构的不同，微阵列可分为同平面阵列和异平面阵列，同平面阵列结构的轴向平行于基底表面，在制作加工上比较简单，但制备材料力学性能要求高，且载药量有限，异平面阵列结构的轴向则垂直于基底表面，制作加工相对复杂，但很容易刺入皮肤。本文工作主要是对异平面阵列的结构设计、模拟仿真、加工制备、模板转模和成品测试这几个方面来展开研究。具体来说，首先根据实际需求评估并设计了各种微阵列的三维结构；接着通过对比选取了硅的各向异性腐蚀作为初始工艺，该工艺得到的四棱锥凹结构一致性整齐，尖锐度良好，在后续工艺中可以作为微针的针头和微电极的探头，利用模压技术还能成为微孔的模具；接下来选取若干材料以备转模，并根据其密度、杨氏模量和泊松比等物质性质参数，使用ANSYS软件模拟受力情况，判断是否符合力学性能上的要求，然后利用微加工工艺制备微针、微电极和微孔阵列的母模板，根据不同要求转模出多级多材料模具和试样，最后运用各种测试设备，比如立体三维显微镜，结合力测试仪以及接触角测量仪等，对试样的各项性能进行测试，并对获取的大量数据进行分析总结。在这些工作的基础上，本文提出了微阵列制备和应用前景展望、更进一步的性能改进提升以及后续研究工作计划，希望能够对越来越成熟的微阵列制备工艺有所裨益和帮助。
苗丹丹[8]（2012）在《新型聚合物光波导的研究》文中研究说明伴随着当今社会的进步和发展，通信必然会朝着超大容量、超长距离的方向发展。传统的电互连存在着很多限制其发展的因素，而光互连与之相比，则有着损耗低、容量大、带宽高、无串扰、抗电磁干扰等优点，因此，电互连将会逐渐的被光互连所取代。光波导是光互连中的重要器件，制作光波导的材料有铌酸锂晶体、半导体和聚合物等等，聚合物材料因其加工工艺简单，价格低廉，易集成，驱动电压小等特点，引起了广泛关注。近年来，聚合物光波导的研究已成为学术界的一个热点。本论文首先用几何光学方法和波动光学方法分析了光在平板波导中的传播特性，并介绍了分析矩形波导的马卡梯里方法。然后利用OptiBPM软件对矩形波导、梯形波导、渐变型波导进行了仿真模拟，着重对渐变型波导进行仿真，验证了渐变型波导的传输损耗比阶跃型波导的传输损耗低很多，并分析了芯层与包层的折射率差、梯形波导的倾斜角、参数g对光在波导中传播特性的影响。最后对光波导模具及光波导制作工艺进行了实验研究，研究了光波导模具的制作工艺及参数。分析了几种聚合物材料的特性，并选择了PDMS材料，以光波导模具为模板，利用刮刀法制作出矩形聚合物光波导，并对其进行了性能测试，利用截断法测得制作出的光波导的损耗约为0.3417dB/cm。
李燃灯[9]（2012）在《基于UV-LIGA技术的双层微齿轮模具镶块的工艺研究》文中认为随着MEMS技术的发展,人们对微型制件的需求越来越高。采用微注射成型技术获得的微型塑件,成型精度高,稳定性好,成本低,易成型,以及其材料本身良好的物理力学特性等诸多优点,决定了其在MEMS领域中的重要地位。微小型腔的加工质量作为微注塑成型的基础,直接影响最终注塑零件的形状、尺寸和精度。与LIGA技术相比,UV-LIGA技术具有加工成本低,周期短的优势,但在加工深度,深宽比和侧壁垂直度等方面存在不足。因此,研究改善UV-LIGA技术在加工深宽比和侧壁垂直度等方面的能力,具有重要的意义。本文以氧化铟锡（ITO）玻璃作为基底,采用UV-LIGA技术制作双层微齿轮型腔模具的镶块。首先,通过分析当前背板生长法和无背板生长法的优缺点,制定了双层微齿轮型腔的制作方案,包括基底材料的选取、双层微齿轮型腔的结构设计、工艺流程的制定和掩膜版的设计和制作。其次,通过实验研究了氧化铟锡（ITO）玻璃表面的涂胶厚度与转速的关系。采用正交优化方法,研究了前烘时间、曝光时间、后烘时间和降温速率对光刻质量的影响,并对单层SU-8胶的工艺参数进行了优化。分别采用两种电镀液,通过实验研究了ITO玻璃表面的电镀特性。最后,通过实验验证了双层微齿轮模具镶块制作的工艺流程,优化了其工艺参数。在双层微齿轮模具镶块的制作过程中,结合理论分析,对实验中出现的光刻和微电铸工艺问题进行讨论,采取了相应的有效措施,改善了双层微齿轮胶模的质量,解决了部分微电铸的工艺问题。
曹玉田[10]（2012）在《微针的制备与应用研究》文中指出MEMS微针是直径为几十微米、长度在100μm以上的针状结构。因为微针的尺寸小，在刺入皮肤中不易触及痛觉神经而产生痛疼感，因此用这种MEMS微针来给药具有无痛、可以自我给药操作的技术优势。由于微针需要具有良好的力学性能和生物相容性才能满足其应用的安全性要求，所以微针的选材、结构设计及其相应的制备技术直接关系到微针的效能。由于硅加工技术的快速发展，早期的微针加工技术研究更多地围绕硅材料展开。由于硅材料具有脆性，且不适合作为模具来大批量复制，因此近年来微针研究的重点逐步转移到金属和聚合物材料。从微针结构角度分析，MEMS微针可以划分为同平面和异平面两种结构形式。同平面微针制备的优势在于可以降低高深宽比结构制备的难度。对异平面微针而言，其特殊的三维结构决定了制备的高难度，但它具有阵列式结构优势，有利于提高微针的作用面积进而提高经皮给药的能力。MEMS微针从问世以来由于其显而易见的技术优势引起了研究人员的广泛关注。研究重点从早期的微针制备逐步转移到微针的各种体外性能测试，如其力学性能、流体性能以及给药能力研究。随着相关研究的逐步深入，最近的研究重点已经扩展到在体动物试验，并通过分组的动物试验来验证微针给药的有效性以及其相比于传统肌肉注射给药的优缺点。本文在总结现有微针制备工艺与制备方法的基础上，通过实验验证了倾斜旋转曝光方法以及硅刻蚀工艺制备微针的可行性，开展了一系列工艺实验研究，并进一步验证了微针对透皮给药能力的影响。具体研究内容如下：首先，研究了倾斜旋转曝光技术制备出的空心微针给药可行性。通过搭建的给药系统证明了用倾斜旋转曝光技术制备出的空心微针的中空部分可以实现流体的流通，这也证明了使用中空微针给药是可行的。其次，对倾斜旋转曝光技术制备的金属微针进行了体外给药能力实验。即微针处理皮肤后皮肤对黄芩苷的渗透性实验。对比实验结果说明金属微针处理皮肤后皮肤的渗透性得到了较大的提高。在上述研究基础上，我们利用倾斜旋转曝光技术的曝光特点，结合SU-8胶在制备三维立体结构方面的优势，采用两次曝光一次显影的技术路线开展载药微针的制备工艺研究。这种新型结构的载药微针通过在其立柱部分设计的凹槽来提高载药能力。最后根据倾斜旋转制备微针所存在的问题，我们开展了用硅各向异性刻蚀与SU-8胶套刻技术来制备载药微针的研究，并成功地制备了载药金属Ni微针。载药金属微针的结合力测试结果表明：载药金属微针的机械强度足以满足微针刺入皮肤的断裂力要求。本项研究从背面曝光和倾斜旋转曝光制作微针的理论开始，探索了制备异平面微针结构的工艺路线和工艺参数。利用倾斜旋转曝光技术制备出了空心微针和实心微针，并开展了微针作用对皮肤的透皮能力的实验研究。在此基础上开展了硅各向异性刻蚀与SU-8曝光技术有机结合应用于载药微针制备的工艺研究，实验证明该技术路线不仅简便易行，而且微针的整体质量更好。
二、利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文)（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文)（论文提纲范文）
（1）大尺寸大高宽比光栅结构均匀性的工艺优化研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 X射线光栅相位衬度成像 |
| 1.2 光栅制作工艺的研究进展 |
| 1.3 光栅的结构均匀性 |
| 1.4 本文的主要工作与内容安排 |
| 第2章 大尺寸大高宽比光栅的曝光工艺 |
| 2.1 光栅的曝光均匀性问题 |
| 2.2 背面曝光工艺 |
| 2.2.1 原理 |
| 2.2.2 实验 |
| 2.2.3 材料与仪器 |
| 2.3 曝光的均匀性 |
| 2.3.1 背面曝光掩模的均匀性 |
| 2.3.2 间隙对曝光均匀性的影响 |
| 2.3.3 单个光栅的均匀性 |
| 2.3.4 大尺寸光栅的整体均匀性 |
| 2.4 本章小结 |
| 第3章 大尺寸大高宽比光栅的显影工艺 |
| 3.1 光栅的显影均匀性问题 |
| 3.2 摇床辅助显影方法 |
| 3.2.1 原理 |
| 3.2.2 模拟方法 |
| 3.3 显影的均匀性 |
| 3.3.1 摇床辅助显影的流场分布 |
| 3.3.2 微结构表面的流场分布 |
| 3.4 显影参数确定方法 |
| 3.4.1 快速显影参数确定方法 |
| 3.4.2 实验结果的分析 |
| 3.5 实验结果 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 大尺寸大高宽比光栅的电镀工艺 |
| 4.1 光栅的电镀均匀性问题 |
| 4.2 引入加强筋的光栅结构 |
| 4.2.1 原理 |
| 4.2.2 模拟方法 |
| 4.2.3 实验 |
| 4.3 电镀的均匀性 |
| 4.3.1 不同加强筋结构的模拟结果 |
| 4.3.2 金属光栅的结构均匀性 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 |
（2）微纳光子结构中的光谱学共振效应研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 微纳光子结构的典型光物理学特性 |
| 1.1.1 波导共振 |
| 1.1.2 表面等离激元 |
| 1.1.3 局域表面等离激元 |
| 1.1.4 Fano共振 |
| 1.2 微纳光子结构的制备 |
| 1.2.1 光刻与溶液法相结合的制备技术 |
| 1.2.2 电子束刻蚀结合真空蒸镀技术 |
| 1.2.3 干刻蚀技术 |
| 1.2.4 自组装技术 |
| 1.2.5 化学合成 |
| 1.3 微纳光子结构及物理学研究现状 |
| 1.4 本文主要研究内容及创新点 |
| 第2章 介质光栅中的类Fano共振效应研究 |
| 2.1 介质光栅的制备 |
| 2.2 介质光栅类Fano耦合共振机理 |
| 2.3 介质光栅类Fano耦合共振光谱学特性 |
| 2.4 波导耦合吸收光栅的共振光谱学特性 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 单层窄带薄膜光栅分束器特性研究 |
| 3.1 薄膜波导光栅的设计和制备 |
| 3.2 薄膜波导光栅的衍射增强共振机理 |
| 3.3 光谱学特性 |
| 3.4 分束特性 |
| 3.4.1 532nm绿色激光的分束特性 |
| 3.4.2 不同波长激光器分束特性 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 表面等离激元和波导模式的类Fano耦合共振特性研究 |
| 4.1 基于ITO周期结构的连续银膜光栅结构的制备 |
| 4.2 光谱学响应特性 |
| 4.2.1 透射光谱响应特性 |
| 4.2.2 银膜光栅结构中的电荷和电场分布特性 |
| 4.3 纳米光栅结构的可调谐光谱学特性 |
| 4.3.1 光谱调谐特性对光栅周期的依赖特性 |
| 4.3.2 纳米光栅结构光谱学响应对蒸镀金属种类的依赖特性 |
| 4.3.3 银膜纳米光栅结构对波导层厚度的依赖关系 |
| 4.3.4 非对称纳米光栅结构的光谱学特性 |
| 4.4 本章小结 |
| 第5章 双金属等离激元异质结结构的全溶液法制备及其共振光谱研究 |
| 5.1 随机分布的双金属等离激元纳米结构制备及其光谱学特性研究 |
| 5.1.1 金纳米胶体颗粒的合成 |
| 5.1.2 金银等离激元纳米岛结构制备及光谱学特性研究 |
| 5.2 双金属等离激元异质结阵列的制备和显微结构特性 |
| 5.2.1 波导耦合金纳米颗粒/银纳米光栅的制备 |
| 5.2.2 金银双金属异质结纳米结构阵列的制备 |
| 5.3 双金属异质结构的光谱学响应特性及其电荷和电场分布特性 |
| 5.4 本章小结 |
| 第6章 金纳米杯的模板法合成及等离激元光谱学特性研究 |
| 6.1 模板合成 |
| 6.1.1 二氧化硅纳米小球的制备 |
| 6.1.2 金属纳米颗粒的合成 |
| 6.1.3 二氧化硅-酚醛树脂核壳结构的制备 |
| 6.2 超薄超小金纳米片的制备 |
| 6.2.1 金纳米片的制备 |
| 6.2.2 金纳米片结构的调谐特性 |
| 6.2.3 金-氧化亚铜纳米片结构的光物理学特性 |
| 6.3 金纳米杯的制备 |
| 6.3.1 金纳米杯的模板法合成 |
| 6.3.2 金纳米杯的制备参数的调谐特性 |
| 6.3.3 金纳米杯的光谱学响应特性 |
| 6.4 等离激元压力传感器 |
| 6.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间所发表的学术论文 |
| 致谢 |
（3）有序微纳结构材料的制备及其对细胞的作用研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 材料对细胞的作用 |
| 1.2 微纳结构对细胞的作用 |
| 1.2.1 纳米结构对细胞的作用 |
| 1.2.1.1 对细胞黏附的影响 |
| 1.2.1.2 对细胞其他行为的影响 |
| 1.2.1.3 诱导干细胞的分化 |
| 1.2.2 微米结构对细胞的作用 |
| 1.2.3 三维微纳多级结构对细胞的作用 |
| 1.2.3.1 三维微孔支架材料 |
| 1.2.3.2 三维微载体材料 |
| 1.2.3.3 三维纤维支架材料 |
| 1.3 微纳结构的构建方法 |
| 1.3.1 自组装技术 |
| 1.3.1.1 胶体晶体的制备 |
| 1.3.1.2 反蛋白石胶体晶体的制备 |
| 1.3.2 光刻技术 |
| 1.3.2.1 光刻技术的概念 |
| 1.3.2.2 光刻技术流程 |
| 1.4 本论文的主要研究工作 |
| 参考文献 |
| 第二章 有序微纳多孔材料的制备及其对细胞的黏附排列调控 |
| 2.1 序言 |
| 2.2 实验部分 |
| 2.2.1 试剂与仪器 |
| 2.2.2 蛋白石胶体晶体膜结构的制备 |
| 2.2.2.1 载玻片亲水处理 |
| 2.2.2.2 SiO_2微球清洗 |
| 2.2.2.3 SiO_2胶体晶体组装 |
| 2.2.2.4 胶体晶体模板热处理 |
| 2.2.3 有序微纳多孔材料的制备 |
| 2.2.3.1 反蛋白石结构膜的制备 |
| 2.2.3.2 拉伸反蛋白石结构膜的制备 |
| 2.2.4 有序微纳多孔材料的凝胶修饰 |
| 2.2.5 细胞培养 |
| 2.2.5.1 细胞复苏 |
| 2.2.5.2 细胞换液与传代 |
| 2.2.5.3 细胞计数 |
| 2.2.5.4 细胞荧光活性染色 |
| 2.2.6 扫描电子显微镜表征前细胞预处理 |
| 2.2.7 细胞活力检测 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 蛋白石胶体晶体膜的制备 |
| 2.3.2 反蛋白石有序多孔膜的制备 |
| 2.3.3 反蛋白石有序多孔膜的拉伸处理 |
| 2.3.4 有序多孔材料的表面亲水处理 |
| 2.3.5 有序多孔材料对细胞的影响 |
| 2.3.5.1 未拉伸有序结构材料对细胞增殖的影响 |
| 2.3.5.2 拉伸有序结构材料对细胞取向的影响 |
| 2.3.5.3 拉伸有序结构材料对细胞形貌的影响 |
| 2.3.6 复合有序结构材料对细胞黏附的影响 |
| 2.3.6.1 有序结构材料的生物凝胶修饰 |
| 2.3.6.2 复合有序结构材料对细胞黏附的影响 |
| 2.3.6.3 复合有序结构材料用于构建生物材料评价平台 |
| 2.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第三章 梯度拉伸有序多孔材料的制备及其对细胞的渐变排列诱导 |
| 3.1 序言 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 试剂与仪器 |
| 3.2.2 梯度拉伸有序多孔膜的制备 |
| 3.2.3 细胞培养 |
| 3.2.3.1 肌腱细胞提取 |
| 3.2.3.2 细胞换液与传代 |
| 3.2.3.3 细胞计数 |
| 3.2.3.4 细胞荧光活性染色 |
| 3.2.4 扫描电子显微镜表征前细胞预处理 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 渐变拉伸有序多孔膜的制备 |
| 3.3.2 渐变拉伸有序多孔膜上的细胞培养 |
| 3.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 有序网格状中空纤维支架的制备及细胞培养研究 |
| 4.1 序言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 试剂与仪器 |
| 4.2.2 网格状结构的设计 |
| 4.2.3 中空纤维的制备 |
| 4.2.3.1 石英晶圆片的准备 |
| 4.2.3.2 光刻部分 |
| 4.2.4 细胞的培养 |
| 4.2.4.1 细胞复苏 |
| 4.2.4.2 细胞换液与传代 |
| 4.2.4.3 细胞计数 |
| 4.2.5 细胞活力检测 |
| 4.2.6 中空纤维的凝胶灌注 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 网格状纤维设计原理 |
| 4.3.1.1 图形尺寸的选择 |
| 4.3.1.2 材料的选择 |
| 4.3.2 微管侧壁的制备 |
| 4.3.2.1 石英晶圆片的不透光处理 |
| 4.3.2.2 曝光时间选择 |
| 4.3.2.3 图形的刻蚀 |
| 4.3.2.4 纤维侧壁的表征 |
| 4.3.3 纤维底层制备结果 |
| 4.3.4 中空纤维制备结果 |
| 4.3.5 中空纤维的细胞培养研究 |
| 4.3.5.1 细胞形貌观察 |
| 4.3.5.2 细胞毒性试验 |
| 4.3.6 基于中空纤维的药物缓释及细胞培养 |
| 4.3.7 多通道中空纤维的制备 |
| 4.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 总结与展望 |
| 博士期间发表的论文及申请专利 |
| 致谢 |
（4）硅基微纳波导器件研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 硅基光子学及其研究现状 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 |
| 2 硅基波导器件的理论基础与仿真方法 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 硅基波导器件的理论基础 |
| 2.3 耦合微环谐振器的理论设计 |
| 2.4 单波长反射器及可重构光相关器的理论设计 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 空气模光子晶体微环谐振器 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 空气模光子晶体微环谐振器的设计 |
| 3.3 空气模光子晶体微环谐振器的制备 |
| 3.4 实验测试及仿真验证 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 谐振间隔可调谐的单微环谐振器 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 单微环谐振分束器件的设计 |
| 4.3 单微环谐振分束器件的制备 |
| 4.4 谐振间隔调谐的实验测试 |
| 4.5 器件的应用讨论 |
| 4.6 本章小结 |
| 5 硅基亚波长光栅波导的非线性研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 亚波长光栅波导的设计 |
| 5.3 亚波长光栅波导的制备 |
| 5.4 亚波长光栅波导上的T比特量级信号传输测试 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 O波段氮化硅波分复用器 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 级联MZI滤波器型波分复用器件的基本理论 |
| 6.3 氮化硅波导器件的工艺制备 |
| 6.4 O波段氮化硅波分复用器的设计、制作及测试 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 总结与展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 |
| 附录2 论文中英文缩略词简表 |
（5）聚合物波导光互连耦合器的设计（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光互连研究的背景与意义 |
| 1.2 国内外光互连研究进展和展望 |
| 1.3 本文主要工作及章节安排 |
| 第二章 光波导理论分析 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 平面波导理论 |
| 2.2.1 麦克斯韦方程和亥姆霍兹方程基本理论 |
| 2.3 矩形波导理论 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 光电混合电路板结构设计和耦合接口研究 |
| 3.1 器件的整体结构及仿真示意图 |
| 3.2 波导斜面的设计与实现 |
| 3.3 镀膜理论分析和斜面镀膜的实现 |
| 3.4 圆柱耦合器的设计与实现 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 矩形聚合物光波导的设计及制作工艺 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 聚合物波导材料 |
| 4.3 掩膜版结构设计及波导制作工艺流程 |
| 4.3.1 矩形波导掩膜版设计 |
| 4.3.2 圆柱波导掩膜版设计 |
| 4.3.3 波导结构制作工艺流程 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 光波导器件测试及损耗分析 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 波导器件实验图片及通光测试数据 |
| 5.2.1 矩形波导的制作与测试 |
| 5.2.2 矩形波导45°斜面的制作与测试分析 |
| 5.2.3 矩形波导45°斜面镀膜前测试分析 |
| 5.2.4 矩形波导45°斜面镀膜后实验图片 |
| 5.2.5 带圆柱耦合器的矩形波导的制作及测试 |
| 5.3 波导器件测试结果计算以及损耗分析 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 全文总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 课题展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
（6）镍基石墨烯复合材料微型零件制备技术研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 微型零件加工技术种类和发展 |
| 1.2.1 微细电火花加工技术 |
| 1.2.2 微细电解技术 |
| 1.2.3 微细切削加工技术 |
| 1.2.4 高能束流加工技术 |
| 1.2.5 LIGA技术 |
| 1.2.6 UV-LIGA技术 |
| 1.3 石墨烯在金属基复合材料中应用的研究进展 |
| 1.3.1 概述 |
| 1.3.2 石墨烯的性能 |
| 1.3.3 石墨烯在金属基复合材料中应用的研究进展 |
| 1.3.4 镍基石墨烯复合材料的研究进展 |
| 1.4 课题研究的主要内容及研究意义 |
| 1.5 小结 |
| 第二章 光刻工艺与电铸工艺简介 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 光刻工艺简介 |
| 2.2.1 SU-8 光刻胶简介及光刻原理 |
| 2.2.2 SU-8 胶紫外光刻工艺的研究进展 |
| 2.2.3 SU-8 胶紫外光刻工艺流程 |
| 2.2.3.1 硅基片预处理 |
| 2.2.3.2 匀胶 |
| 2.2.3.3 前烘 |
| 2.2.3.4 曝光 |
| 2.2.3.5 后烘 |
| 2.2.3.6 显影 |
| 2.2.3.7 漂洗与干燥 |
| 2.2.3.8 去胶 |
| 2.3 电铸工艺简介 |
| 2.3.1 微电铸工艺原理 |
| 2.3.2 复合电铸工艺 |
| 2.4 小结 |
| 第三章 微型零件模具紫外深光刻制作工艺研究 |
| 3.1 实验设备与材料 |
| 3.1.1 实验设备简介 |
| 3.1.2 实验材料简介 |
| 3.2 光刻工艺设计 |
| 3.3 制备SU-8 胶微结构的工艺参数 |
| 3.4 SU-8 胶紫外光刻工艺试验结果分析 |
| 3.4.1 前烘时间对光刻胶的影响 |
| 3.4.2 曝光时间对光刻胶的影响 |
| 3.4.3 后烘时间对光刻胶的影响 |
| 3.4.4 显影时间对光刻胶的影响 |
| 3.4.5 光刻实验结果分析 |
| 3.5 SU-8（2075型）光刻胶微胶膜形貌表征 |
| 3.6 实验过程存在的问题及解决方法 |
| 3.7 小结 |
| 第四章 镍基石墨烯微型零件电铸工艺研究 |
| 4.1 电铸工艺设计 |
| 4.1.1 试验使用的仪器设备 |
| 4.1.2 电镀镍溶液及配置 |
| 4.1.3 镍阳极的选择 |
| 4.1.4 复合电铸溶液及配置 |
| 4.1.5 复合电铸镍基石墨烯微型零件实验装置 |
| 4.2 结果及分析 |
| 4.2.1 电铸结果 |
| 4.2.2 镍基石墨烯复合材料SEM表征 |
| 4.2.3 电流密度对电铸过程及铸层质量的影响 |
| 4.2.4 阴阳极间距离对电铸过程及铸层质量的影响 |
| 4.3 小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 总结 |
| 5.2 主要创新点 |
| 5.3 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（7）异平面微阵列结构的制备和特性研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 表录 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 微阵列的制备及研究意义 |
| 1.2.1 微针 |
| 1.2.2 微电极 |
| 1.2.3 微孔 |
| 1.3 传统技术 |
| 1.3.1 打孔压印技术 |
| 1.3.2 提拉技术 |
| 1.3.3 光刻工艺 |
| 1.4 准 LIGA 工艺 |
| 1.5 硅腐蚀与转模工艺 |
| 1.5.1 硅腐蚀机理 |
| 1.5.2 硅腐蚀分类 |
| 1.5.3 硅腐蚀工艺 |
| 1.5.4 转模工艺 |
| 1.6 本论文的研究意义及主要研究内容 |
| 1.6.1 研究意义 |
| 1.6.2 研究内容 |
| 1.7 本章小结 |
| 第二章 微阵列的设计与 ANSYS 仿真 |
| 2.1 微阵列的结构设计 |
| 2.1.1 微针结构设计 |
| 2.1.2 微电极结构设计 |
| 2.1.3 微孔结构设计 |
| 2.2 微阵列的受力分析 |
| 2.2.1 轴向压缩力 |
| 2.2.2 自由弯曲力 |
| 2.2.3 其他力 |
| 2.3 ANSYS 软件介绍 |
| 2.3.1 有限元法 |
| 2.3.2 技术特点 |
| 2.3.3 分析功能 |
| 2.3.4 处理器的特点 |
| 2.3.5 使用中应注意的问题 |
| 2.4 对微阵列受力的模拟 |
| 2.4.1 微针 |
| 2.4.2 微电极 |
| 2.4.3 微孔 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 微阵列尖端的制备 |
| 3.1 提拉技术 |
| 3.1.1 聚合物混合溶液 |
| 3.1.2 熔融的 PLLA |
| 3.1.3 结果分析 |
| 3.2 硅腐蚀技术 |
| 3.2.1 掩膜版 |
| 3.2.2 工艺流程 |
| 3.2.3 制备过程 |
| 3.2.4 结果分析 |
| 3.3 本章小结 |
| 第四章 多级多材料模具的研究 |
| 4.1 结构设计 |
| 4.2 原始模具的制备 |
| 4.3 各级模具的制备 |
| 4.3.1 聚二甲基硅氧烷 |
| 4.3.2 左旋聚乳酸 |
| 4.3.3 左旋聚乳酸和氯仿 |
| 4.3.4 聚苯乙烯 |
| 4.3.5 金属镍 |
| 4.3.6 透明质酸 |
| 4.4 制备结果 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 性能测试 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 结构尺寸 |
| 5.3 横向弯曲力 |
| 5.4 透皮实验 |
| 5.5 接触角 |
| 5.6 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文研究工作总结 |
| 6.2 本文创新点小结 |
| 6.3 未来工作展望 |
| 参考文献 |
| 附录 |
| 致谢 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 |
| 附件 |
（8）新型聚合物光波导的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 聚合物光波导的特点及国内外研究现状 |
| 1.3 本论文的主要工作 |
| 2 光波导分析基础 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 平板波导的分析基础 |
| 2.3 矩形波导的分析基础 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 光波导的仿真分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 矩形波导的仿真分析 |
| 3.3 梯形波导的仿真分析 |
| 3.4 渐变型波导的仿真分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 矩形聚合物波导的制作和测试 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 光波导制作材料的选取 |
| 4.3 光波导的制作及测试 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 全文总结与展望 |
| 5.1 全文总结 |
| 5.2 课题展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
（9）基于UV-LIGA技术的双层微齿轮模具镶块的工艺研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究的背景 |
| 1.2 微注塑模具型腔制造的研究现状 |
| 1.3 UV-LIGA技术在微模具型腔制造中的研究现状 |
| 1.4 本课题的主要研究内容 |
| 第2章 UV-LIGA工艺研究 |
| 2.1 光刻工艺研究 |
| 2.2 光刻胶及其特性 |
| 2.3 RZJ-304正型光刻胶 |
| 2.3.1 RZJ-3043工艺过程研究 |
| 2.3.2 RZJ-304的工艺参数 |
| 2.4 SU-8负型光刻胶 |
| 2.4.1 SU-8工艺过程研究 |
| 2.4.2 SU-8光刻工艺参数的研究 |
| 2.5 微电铸工艺研究 |
| 2.5.1 原理 |
| 2.5.2 镀液的成分及作用 |
| 2.5.3 工艺条件对微电铸的影响分析 |
| 2.5.4 SU-8胶的热溶胀效应 |
| 2.6 正交实验研究 |
| 2.6.1 正交实验的概念 |
| 2.6.2 正交表 |
| 2.6.3 正交实验的方案和结果 |
| 2.6.4 正交实验的直观分析 |
| 2.7 本章小结 |
| 第3章 双层微齿轮型腔的设计及制作方案 |
| 3.1 基底材料的选取 |
| 3.2 双层齿轮型腔的结构设计 |
| 3.3 双层齿轮型腔工艺过程的制定 |
| 3.3.1 ITO玻璃上镍掩膜图形的制作 |
| 3.3.2 双层齿轮型腔的制作流程 |
| 3.4 光学掩膜的设计与制作 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 双层微齿轮模具镶块的实验研究 |
| 4.1 实验设备 |
| 4.2 实验材料与试剂 |
| 4.3 SU-82075工艺参数的研究 |
| 4.3.1 涂胶厚度与转速的关系 |
| 4.3.2 单层SU-82075的工艺参数优化 |
| 4.3.3 ITO导电玻璃上的微电铸研究 |
| 4.4 镍掩膜图形的制作 |
| 4.5 SU-8双层齿轮型腔镶块的制备 |
| 4.6 实验中的主要问题与解决方案 |
| 4.6.1 SU-8胶的气泡问题 |
| 4.6.2 涂胶问题 |
| 4.6.3 SU-8胶与基底的结合性问题 |
| 4.6.4 边缘水珠效应问题 |
| 4.6.5 前烘问题 |
| 4.6.6 曝光和套刻对准的问题 |
| 4.6.7 后烘问题 |
| 4.6.8 胶层显影脱落现象 |
| 4.6.9 SU-8胶的去除 |
| 4.6.10 电镀问题 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 结论与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文情况 |
（10）微针的制备与应用研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 硅微针的加工制备方法 |
| 1.1.1 硅微针的加工方法 |
| 1.1.2 硅微针的基本加工方法 |
| 1.2 微针的制备进展 |
| 1.2.1 硅微针的制备 |
| 1.2.2 聚合物微针的制备 |
| 1.2.3 金属微针的制备 |
| 1.3 微针性能的模拟 |
| 1.4 微针在经皮给药上的应用研究 |
| 1.5 本论文的研究意义及主要研究内容 |
| 1.5.1 研究意义 |
| 1.5.2 研究内容 |
| 1.6 本章小结 |
| 第二章 三维结构微加工技术 |
| 2.1 光刻技术 |
| 2.1.1 常用曝光技术 |
| 2.1.2 光学光刻技术研究进展 |
| 2.1.3 常用的曝光方式 |
| 2.1.4 先进光刻技术的进展 |
| 2.2 准LIGA（UV-LIGA）技术 |
| 2.2.1 UV-LIGA 技术工艺过程 |
| 2.2.2 UV-LIGA 技术的工艺难点 |
| 2.3 SU-8 胶背面曝光技术 |
| 2.4 倾斜旋转曝光技术 |
| 2.4.1 倾斜旋转曝光实验台 |
| 2.4.2 倾斜旋转光刻的曝光条件 |
| 2.4.3 倾斜旋转曝光与显影结果分析 |
| 2.4.4 倾斜旋转曝光技术的优势和需要解决的难题 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 空心异平面金属微针阵列的制备、微流体系统的集成及性能验证 |
| 3.1 空心微针的设计 |
| 3.2 空心异平面金属微针的制备工艺流程 |
| 3.3 空心异平面金属微针制备实验 |
| 3.4 空心异平面金属微针制备结果分析 |
| 3.5 Ni 空心微针微通道可通过流体的验证性实验 |
| 3.5.1 验证系统搭建 |
| 3.5.2 琼脂糖凝胶的制备 |
| 3.5.3 微针系统插入琼脂糖凝胶及红墨水在琼脂糖凝胶中的扩散 |
| 3.5.4 验证性实验分析与结果 |
| 3.6 本章小结 |
| 第四章 实心异平面金属微针阵列的制备及其力学和透皮性能研究 |
| 4.1 采用倾斜旋转曝光制备异平面金属实心微针 |
| 4.1.1 异平面金属实心微针阵列制备工艺流程 |
| 4.1.2 实心微针制备实验 |
| 4.1.3 实心微针制备结果分析 |
| 4.2 实心微针对皮肤渗透性的影响 |
| 4.2.1 仪器、原料与试药 |
| 4.2.2 黄芩苷分析方法的建立 |
| 4.2.3 透皮吸收实验 |
| 4.2.4 透皮稳定性实验 |
| 4.3 微针处理皮肤实验结果分析 |
| 4.4 微针处理皮肤对皮肤渗透性影响实验总结及注意事项 |
| 4.4.1 皮肤的处理部分所需要注意的问题 |
| 4.4.2 溶液配制及标准曲线的制备中所需要注意的问题 |
| 4.4.3 透皮吸收实验过程中需要注意的问题 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 基于背面倾斜旋转曝光技术和套刻技术的载药微针制备技术研究 |
| 5.1 四槽异平面PDMS 微针的制备 |
| 5.1.1 四槽异平面微针设计图 |
| 5.1.2 四槽异平面微针制备工艺流程 |
| 5.1.3 PDMS 四槽异平面微针制备实验 |
| 5.1.4 四槽 PDMS 微针实验结果分析 |
| 5.2 六槽异平面PDMS 微针的制备尝试 |
| 5.2.1 六槽异平面 PDMS 微针设计图 |
| 5.2.2 六槽异平面 PDMS 微针的制备工艺流程与实验 |
| 5.2.3 六槽异平面 PDMS 微针制备结果 |
| 5.3 六槽异平面 PDMS 微针制备结果的分析与对比 |
| 5.3.1 问题描述 |
| 5.3.2 六槽异平面 PDMS 微针与四槽 PDMS 微针的扫描电子显微镜照片对比 |
| 5.4 背面旋转倾斜曝光技术制备载药微针的实验总结与分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 硅刻蚀工艺与 SU-8 胶套刻技术制备金属载药微针 |
| 6.1 硅刻蚀结合SU-8 套刻技术制备PDMS 载药微针的尝试 |
| 6.1.1 结构设计 |
| 6.1.2 制备流程 |
| 6.1.3 实验与结果 |
| 6.2 用硅刻蚀和套刻工艺相结合制备四槽载药金属微针 |
| 6.2.1 微针的设计与流程 |
| 6.2.2 载药微针实验 |
| 6.3 金属 Ni 微针的机械强度 |
| 6.4 硅刻蚀技术结合 SU-8 胶制技术备载药金属微针工艺流程的总结 |
| 6.5 本章小结 |
| 第七章 结论与展望 |
| 7.1 主要研究内容和结论 |
| 7.2 论文主要创新点 |
| 7.3 未来工作展望与下一步研究设想 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 |
| 致谢 |
| 附件 |
四、利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文)（论文参考文献）
- [1]大尺寸大高宽比光栅结构均匀性的工艺优化研究[D]. 王艺. 中国科学技术大学, 2020(02)
- [2]微纳光子结构中的光谱学共振效应研究[D]. 张健. 北京工业大学, 2018(05)
- [3]有序微纳结构材料的制备及其对细胞的作用研究[D]. 陆洁. 东南大学, 2017(02)
- [4]硅基微纳波导器件研究[D]. 高阁. 华中科技大学, 2017(10)
- [5]聚合物波导光互连耦合器的设计[D]. 康世涛. 电子科技大学, 2016(02)
- [6]镍基石墨烯复合材料微型零件制备技术研究[D]. 张志芳. 太原科技大学, 2016(11)
- [7]异平面微阵列结构的制备和特性研究[D]. 廖哲勋. 上海交通大学, 2013(04)
- [8]新型聚合物光波导的研究[D]. 苗丹丹. 华中科技大学, 2012(07)
- [9]基于UV-LIGA技术的双层微齿轮模具镶块的工艺研究[D]. 李燃灯. 华东理工大学, 2012(02)
- [10]微针的制备与应用研究[D]. 曹玉田. 上海交通大学, 2012(08)